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更新日志
CN110240112B 薄膜驱动结构、薄膜驱动结构的制造方法及喷墨装置
申请日：2018.03.09
IPC分类号：B81B1/00
公开日：20220819
申请人：中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
发明人：谢永林;李令英;刘迪;钱波;张小飞;王文浩;周岩
薄膜驱动结构、薄膜驱动结构的制造方法及喷墨装置
喷墨装置薄膜驱动器件设计
实现薄膜驱动结构的方法工艺复杂，成本高。
提供了一种薄膜驱动结构，包括： 具有多个流体通道的基底；位于所述基底上的薄膜层，所述薄膜层的位于所述流体通道上的部分凸起，以形成与所述流体通道连通的压力腔；位于所述薄膜层的避开所述流体通道的部分上的支撑壁。
制出的薄膜驱动结构，压力腔与悬空薄膜是一个整体，大大提高了制造精度，制造方法工艺简单、成本较低，可适用于薄膜驱动结构的批量化生产。
申请号：CN201810192616.1
公开（公告）号：CN110240112B
申请日：2018.03.09
公开（公告）日：20220819
优先权：
同族：中国
同族引用文献：12
同族施引专利：0
申请人：中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
申请人地址：215123 江苏省苏州市苏州工业园区若水路398号
权利人：中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
权利人地址：215123 江苏省苏州市苏州工业园区若水路398号
发明人：谢永林;李令英;刘迪;钱波;张小飞;王文浩;周岩
代理机构：深圳市铭粤知识产权代理有限公司
代理人：孙伟峰
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1.一种薄膜驱动结构，其特征在于，包括：
具有多个流体通道的基底；
位于所述基底上的薄膜层，所述薄膜层的位于所述流体通道上的部分凸起，以形成与所述流体通道连通的压力腔；
位于所述薄膜层的避开所述流体通道的部分上的支撑壁，所述支撑壁形成为所述压力腔的墙壁。
7.一种薄膜驱动结构的制造方法，其特征在于，包括：
在基底上形成间隔设置的多个牺牲层；
在所述基底和所述牺牲层上形成薄膜层；
在所述基底上的薄膜层上形成支撑壁；
在所述基底中形成多个流体通道，所述流体通道与所述牺牲层相对；
将所述牺牲层去除，以形成与所述流体通道连通的压力腔，其中，所述支撑壁形成为所述压力腔的墙壁。
9.一种喷墨装置，其特征在于，包括权利要求1至6任一项所述的薄膜驱动结构。