CN112143573B 硅片碱抛后清洗用添加剂及其应用
申请日:2020.09.29
IPC分类号:C11D1/72
公开日:20210706
申请人:常州时创能源股份有限公司
发明人:于胤;陈盼盼;杨勇;章圆圆
硅片碱抛后清洗用添加剂及其应用
光伏领域
常规清洗剂对于接近仪器检出限的超痕量PPB-PPM浓度级别污染的清洁不理想,对于重金属元素作用较差,引入新杂质,对复杂绒面的清洗效果差
提供一种硅片碱抛后清洗用添加剂,由1~3质量份柠檬酸、0.3~0.5质量份月桂醇聚氧乙烯醚、1~2质量份乙二醇、1~2质量份硫酸钠、2~3质量份氯化钠和85~97质量份水组成。
提高电池少子寿命、电流电压、以及填充因子FF,提高生产良率,提高电池平均效率,对痕量杂质有很好的除杂作用,润湿性好,在复杂结构绒面以及卡齿处的硅片清洗上有着优越的能力。
申请号:CN202011047197.6
公开(公告)号:CN112143573B
申请日:2020.09.29
公开(公告)日:20210706
优先权:
同族:中国
同族引用文献:7
同族施引专利:1
申请人:常州时创能源股份有限公司
申请人地址:213300 江苏省常州市溧阳市溧城镇吴潭渡路8号
权利人:常州时创能源股份有限公司
权利人地址:213300 江苏省常州市溧阳市溧城镇吴潭渡路8号
发明人:于胤;陈盼盼;杨勇;章圆圆
代理机构:
代理人:
-
1.硅片碱抛后清洗用添加剂,其特征在于,由1~3质量份柠檬酸、0.3~0.5质量份月桂醇聚氧乙烯醚、1~2质量份乙二醇、1~2质量份硫酸钠、2~3质量份氯化钠和85~97质量份水组成。
3.硅片碱抛后清洗用清洗液,其特征在于,其含有酸溶液和权利要求1或2所述的添加剂,添加剂与酸溶液的质量比为0.5~2:100;所述酸溶液为氢氟酸的水溶液。
7.硅片碱抛后清洗方法,其特征在于,利用权利要求3至6中任一项所述的清洗液对碱抛后的硅片进行清洗。

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15501385867
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